【環球網科技綜合報道】

據外媒Sammobile 5月15日報道，多年來，三星與華為一直陷入專利之爭。雙方在中國和美國就數十起專利侵權案件相互提起訴訟。今年早些時候，雙方決定在美國結束訴訟，似乎也決定將在中國達成和解。

據報道，經廣東省高級人民法院的多次調解，雙方已就一系列涉及標準必要專利的侵權糾紛達成全球和解。和解協議的細節尚未公布，但兩家公司已同意在全球范圍內建立一個交叉授權標準專利的框架。

隨著新框架的實施，兩家公司都陸續啟動有關案件的撤訴等后續工作。多年來，雙方先后提起了40多起訴訟，而和解協議的達成，標志著這場曠日持久的專利糾紛案落下帷幕。(實習編譯：康菲 審稿：李宗澤)

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